産業相関図
HBM(広帯域メモリ)相関図
生成AIの性能を左右する積層DRAM「HBM」。素材・装置からメーカーシェア、先端パッケージ、AIアクセラレータまでの流れを整理。
HBMはDRAMを縦に積層してTSVで接続したメモリ。HBMメーカーが作り、先端パッケージ(CoWoS)でGPUと統合され、AIアクセラレータに載って生成AIを動かします。
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1
素材・部材
DRAMチップを積層・接合するための基板、微細配線、封止材など。
イビデン パッケージ基板 新光電気工業 基板 味の素 約100% ABF絶縁材 レゾナック 封止材 Indium🇺🇸 接合材
2
製造装置(TSV・積層・接合)
シリコン貫通電極(TSV)形成、ウェハ薄化、チップ積層・ボンディング。
Applied Materials🇺🇸 TSV/成膜 東京エレクトロン 各種 BESI🇳🇱 ハイブリッド接合 ASMPT🇸🇬 ボンダー Kulicke & Soffa🇺🇸 ボンダー ディスコ 薄化/ダイシング Camtek🇮🇱 検査 アドバンテスト 約50% テスト
3
HBMメーカー(DRAM積層)
DRAMを縦に積みTSVで結ぶ。歩留まりが難しく事実上3社に集中。
SK hynix🇰🇷 を取り巻く主な企業
支える取引先
ASML🇳🇱露光装置東京エレクトロン装置Applied Materials🇺🇸成膜信越化学/SUMCO🇹🇼ウェハアドバンテストテストTSMC🇹🇼ベースダイ製造
主な顧客
NVIDIA🇺🇸主力顧客AMD🇺🇸クラウド各社AI投資
Samsung🇰🇷 を取り巻く主な企業
支える取引先
ASML🇳🇱露光装置Applied Materials🇺🇸成膜Lam Research🇺🇸エッチングアドバンテスト/Teradyneテスト
主な顧客
NVIDIA🇺🇸認定進行中AMD🇺🇸Google/AWS🇺🇸自社ASIC
Micron🇺🇸 を取り巻く主な企業
支える取引先
ASML🇳🇱露光装置東京エレクトロン装置Applied Materials🇺🇸成膜Lam Research🇺🇸エッチング信越化学ウェハアドバンテストテスト
主な顧客
NVIDIA🇺🇸主力顧客AMD🇺🇸データセンター各社
4
先端パッケージ(2.5D / CoWoS)
GPUダイとHBMを1つのインターポーザ上に統合。供給がAI増産の律速に。
Amkor🇺🇸 OSAT ASE🇹🇼 OSAT SPIL🇹🇼 OSAT Intel(Foveros)🇺🇸 3D実装
TSMC(CoWoS)🇹🇼 を取り巻く主な企業
支える取引先
ASML🇳🇱露光装置東京エレクトロン装置Applied Materials🇺🇸成膜BESI🇳🇱ハイブリッド接合信越化学材料
主な顧客
NVIDIA🇺🇸最大顧客AMD🇺🇸Broadcom🇺🇸ASICApple🇺🇸
5
AIアクセラレータ(HBM搭載)
HBMを数個〜十数個搭載し、広帯域でデータを供給。AI計算の中核。
AMD🇺🇸 GPU Google🇺🇸 TPU AWS🇺🇸 Trainium Microsoft🇺🇸 Maia Meta🇺🇸 MTIA Broadcom🇺🇸 カスタムASIC Intel🇺🇸 Gaudi
NVIDIA🇺🇸 を取り巻く主な企業
支える取引先
TSMC🇹🇼GPU製造/CoWoSSK hynix🇰🇷HBM主力Samsung/Micron🇰🇷HBMアドバンテストテスト
主な顧客
Microsoft🇺🇸クラウドGoogle🇺🇸Meta🇺🇸Amazon🇺🇸Oracle🇺🇸Tesla/xAI🇺🇸
6
最終需要
生成AIの学習・推論。データセンター投資がHBM需要を直接押し上げる。
生成AI(学習) 主因 AI推論 HPC・スパコン クラウド各社
※ 各レイヤーの代表例であり網羅ではありません。市場シェアは公知の各種調査に基づく概算・目安で、時期・調査機関により変動します。企業は複数レイヤーにまたがる場合があります。取引関係も主要なものの抜粋です。